KTP — ความถี่สองเท่าของเลเซอร์ Nd:yag และเลเซอร์ที่เจือด้วย Nd อื่นๆ
รายละเอียดสินค้า
KTP เป็นวัสดุที่ใช้กันมากที่สุดสำหรับการเพิ่มความถี่เป็นสองเท่าของเลเซอร์ Nd:YAG และเลเซอร์ที่เจือด้วย Nd อื่นๆ โดยเฉพาะอย่างยิ่งที่ความหนาแน่นพลังงานต่ำหรือปานกลาง
ข้อดี
● การแปลงความถี่ที่มีประสิทธิภาพ (ประสิทธิภาพการแปลง 1064nm SHG อยู่ที่ประมาณ 80%)
● ค่าสัมประสิทธิ์แสงไม่เชิงเส้นขนาดใหญ่ (15 เท่าของ KDP)
● แบนด์วิธเชิงมุมกว้างและมุมเดินออกเล็กน้อย
● อุณหภูมิกว้างและแบนด์วิธสเปกตรัม
● การนำความร้อนสูง (2 เท่าของคริสตัล BNN)
● ปราศจากความชื้น
● การไล่ระดับสีที่ไม่ตรงกันขั้นต่ำ
● พื้นผิวเลนส์ขัดเงาเป็นพิเศษ
● ไม่มีการสลายตัวที่อุณหภูมิต่ำกว่า 900°C
● มีความเสถียรทางกลไก
● ต้นทุนต่ำเมื่อเปรียบเทียบกับ BBO และ LBO
การใช้งาน
● การเพิ่มความถี่เป็นสองเท่า (SHG) ของเลเซอร์เจือ Nd สำหรับเอาต์พุตสีเขียว/แดง
● การผสมความถี่ (SFM) ของเลเซอร์ Nd และเลเซอร์ไดโอดสำหรับเอาต์พุตสีน้ำเงิน
● แหล่งพาราเมตริก (OPG, OPA และ OPO) สำหรับเอาต์พุตที่ปรับได้ขนาด 0.6 มม. - 4.5 มม.
● โมดูเลเตอร์แบบออปติคอลไฟฟ้า (EO) สวิตช์แบบออปติคัล และข้อต่อแบบกำหนดทิศทาง
● ท่อนำคลื่นแสงสำหรับอุปกรณ์ NLO และ EO ในตัว
การแปลงความถี่
KTP เปิดตัวครั้งแรกในฐานะคริสตัล NLO สำหรับระบบเลเซอร์เจือ Nd ที่มีประสิทธิภาพการแปลงสูง ภายใต้เงื่อนไขบางประการ ประสิทธิภาพการแปลงได้รับการรายงานถึง 80% ซึ่งทำให้ผลึก NLO อื่นๆ ล้าหลังมาก
เมื่อเร็ว ๆ นี้ ด้วยการพัฒนาไดโอดเลเซอร์ KTP ถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายเป็นอุปกรณ์ SHG ในระบบเลเซอร์ของแข็ง Nd:YVO4 ที่ปั๊มไดโอดเพื่อส่งออกเลเซอร์สีเขียว และยังทำให้ระบบเลเซอร์มีขนาดกะทัดรัดมาก
KTP สำหรับ OPA, OPO แอปพลิเคชัน
นอกเหนือจากการใช้งานอย่างกว้างขวางเป็นอุปกรณ์เพิ่มความถี่เป็นสองเท่าในระบบเลเซอร์เจือ Nd สำหรับเอาต์พุตสีเขียว/แดงแล้ว KTP ยังเป็นหนึ่งในผลึกที่สำคัญที่สุดในแหล่งพาราเมตริกสำหรับเอาต์พุตที่ปรับแต่งได้ตั้งแต่ที่มองเห็นได้ (600 นาโนเมตร) ไปจนถึงอินฟราเรดระดับกลาง (4500 นาโนเมตร) เนื่องจากความนิยมของแหล่งกำเนิดที่ถูกปั๊ม ฮาร์มอนิกพื้นฐานและฮาร์โมนิกที่สองของเลเซอร์ Nd:YAG หรือ Nd:YLF
หนึ่งในการใช้งานที่มีประโยชน์มากที่สุดคือ KTP OPO/OPA ที่จับคู่เฟสที่ไม่สำคัญ (NCPM) ซึ่งสูบโดยเลเซอร์ที่ปรับได้เพื่อให้ได้ประสิทธิภาพการแปลงสูง KTP OPO ส่งผลให้เอาต์พุตพัลส์ femto-วินาทีต่อเนื่องที่เสถียรที่อัตราการทำซ้ำ 108 Hz และระดับพลังงานเฉลี่ยมิลลิวัตต์ทั้งในสัญญาณและเอาท์พุตไอเดลอร์
สูบด้วยเลเซอร์ Nd-doped KTP OPO ได้รับประสิทธิภาพการแปลงสูงกว่า 66% สำหรับการแปลงดาวน์จาก 1,060 นาโนเมตรเป็น 2120 นาโนเมตร
โมดูเลเตอร์ไฟฟ้าและแสง
คริสตัล KTP สามารถใช้เป็นโมดูเลเตอร์ไฟฟ้าแสงได้ สำหรับข้อมูลเพิ่มเติม โปรดติดต่อวิศวกรฝ่ายขายของเรา
คุณสมบัติพื้นฐาน
| โครงสร้างคริสตัล | ออร์โธฮอมบิก |
| จุดหลอมเหลว | 1172°ซ |
| คูรีพอยต์ | 936°ซ |
| พารามิเตอร์ขัดแตะ | ก=6.404Å, b=10.615Å, c=12.814Å, Z=8 |
| อุณหภูมิการสลายตัว | ~1150°ซ |
| อุณหภูมิการเปลี่ยนผ่าน | 936°ซ |
| ความแข็งของโมห์ | »5 |
| ความหนาแน่น | 2.945 ก./ซม.3 |
| สี | ไม่มีสี |
| ความไวต่อความชื้น | No |
| ความร้อนจำเพาะ | 0.1737 แคลอรี่/กรัม°C |
| การนำความร้อน | 0.13 วัตต์/ซม./°C |
| การนำไฟฟ้า | 3.5x10-8 วินาที/ซม. (แกน c, 22°C, 1KHz) |
| ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวเนื่องจากความร้อน | a1 = 11 x 10-6 °C-1 |
| a2 = 9 x 10-6 °C-1 | |
| a3 = 0.6 x 10-6 °C-1 | |
| ค่าสัมประสิทธิ์การนำความร้อน | k1 = 2.0 x 10-2 วัตต์/ซม. °C |
| k2 = 3.0 x 10-2 วัตต์/ซม. °C | |
| k3 = 3.3 x 10-2 วัตต์/ซม. °C | |
| ช่วงการส่งสัญญาณ | 350 นาโนเมตร ~ 4500 นาโนเมตร |
| ช่วงการจับคู่เฟส | 984 นาโนเมตร ~ 3400 นาโนเมตร |
| ค่าสัมประสิทธิ์การดูดซึม | < 1%/ซม. @1064nm และ 532nm |
| คุณสมบัติไม่เชิงเส้น | |
| ช่วงการจับคู่เฟส | 497 นาโนเมตร – 3300 นาโนเมตร |
| สัมประสิทธิ์ไม่เชิงเส้น (@ 10-64นาโนเมตร) | d31=14.54น./V, d31=16.35น./V, ส31=16.9น./ว วัน24=15.64น./วี, d15=13.91น./วี ที่ 1.064 มม |
| ค่าสัมประสิทธิ์ทางแสงไม่เชิงเส้นที่มีประสิทธิภาพ | เดฟฟ์(II) µ (d24 - d15)sin2qsin2j - (d15sin2j + d24cos2j)sinq |
Type II SHG ของเลเซอร์ 1064 นาโนเมตร
| มุมจับคู่เฟส | ค=90°, f=23.2° |
| ค่าสัมประสิทธิ์ทางแสงไม่เชิงเส้นที่มีประสิทธิภาพ | ค่าดีฟ » 8.3 x d36(KDP) |
| การยอมรับเชิงมุม | Dθ= 75 เมราด Dφ= 18 เมราด |
| การยอมรับอุณหภูมิ | 25°ซ.ซม |
| การยอมรับสเปกตรัม | 5.6 ตรม |
| มุมเดินออก | 1 มราด |
| เกณฑ์ความเสียหายทางแสง | 1.5-2.0MW/ซม.2 |
พารามิเตอร์ทางเทคนิค
| มิติ | 1x1x0.05 - 30x30x40 มม |
| ประเภทการจับคู่เฟส | ประเภทที่ 2, θ=90°; φ=มุมการจับคู่เฟส |
| การเคลือบทั่วไป | S1&S2: AR @1064nm R<0.1%; AR @ 532nm, รัศมี<0.25% ข) S1: HR @ 1064nm, R>99.8%; HT @ 808nm, T>5% S2: AR @ 1064nm, รัศมี <0.1%; AR @532nm, รัศมี<0.25% การเคลือบแบบกำหนดเองตามคำขอของลูกค้า |
| ความอดทนของมุม | 6' Δθ< ± 0.5°; ∆φ< ±0.5° |
| ความอดทนของมิติ | ±0.02 - 0.1 มม (กว้าง ± 0.1 มม.) x (สูง ± 0.1 มม.) x (ยาว + 0.2 มม./-0.1 มม.) สำหรับซีรีส์ NKC |
| ความเรียบ | แลมบ์ดา/8 @ 633 นาโนเมตร |
| รหัสขูด/ขุด | 10/5 รอยขีดข่วน / ขุดต่อ MIL-O-13830A |
| ความเท่าเทียม | <10' ดีกว่า 10 อาร์ควินาทีสำหรับซีรีย์ NKC |
| ความตั้งฉาก | 5' 5 อาร์คนาทีสำหรับซีรีย์ NKC |
| การบิดเบือนของคลื่นหน้า | น้อยกว่า แล/8 @ 633 นาโนเมตร |
| รูรับแสงที่ชัดเจน | พื้นที่ส่วนกลาง 90% |
| อุณหภูมิในการทำงาน | 25°ซ - 80°ซ |
| ความสม่ำเสมอ | ขนาด ~10-6/ซม |
